Marknadens största urval
Fri frakt över 199 kr
Snabb leverans
Hjälp
Logga in
  1. Hem
  2. Böcker
  3. Företagande & lärande
  4. Vetenskap
  5. Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System

Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System

av Seiji Samukawa

del av SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology-serien

Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System av Seiji Samukawa
Om Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System

Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data.

Visa mer
  • Språk:
  • Engelska
  • ISBN:
  • 9784431547945
  • Format:
  • Häftad
  • Sidor:
  • 40
  • Utgiven:
  • 17. februari 2014
  • Utgåva:
  • 2014
  • Mått:
  • 155x235x0 mm.
  • Vikt:
  • 949 g.
Leveranstid: 2-4 veckor
Förväntad leverans: 18. december 2024

Om Seiji Samukawa

Se alla böcker av Seiji Samukawa

Beskrivning av Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System

Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data.

Användarnas betyg av Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System



Andra köpte även...
Hitta liknande böcker
Boken Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System finns i följande kategorier:

Gör som tusentals andra bokälskare

Prenumerera på vårt nyhetsbrev för att få fantastiska erbjudanden och inspiration för din nästa läsning.