Marknadens största urval
Snabb leverans

Handbook of Chemical Vapor Deposition

- Principles, Technology and Applications

Om Handbook of Chemical Vapor Deposition

Offers an understanding of the advances in the Chemical Vapor Deposition (CVD) process. This book features data on both Plasma CVD and metallo-organic CVD processes. It also explains growing importance of CVD in production of semiconductor and related applications.

Visa mer
  • Språk:
  • Engelska
  • ISBN:
  • 9780815514329
  • Format:
  • Inbunden
  • Sidor:
  • 506
  • Utgiven:
  • 1. september 1999
  • Utgåva:
  • 2
  • Mått:
  • 164x237x40 mm.
  • Vikt:
  • 944 g.
Leveranstid: 2-4 veckor
Förväntad leverans: 18. december 2024

Beskrivning av Handbook of Chemical Vapor Deposition

Offers an understanding of the advances in the Chemical Vapor Deposition (CVD) process. This book features data on both Plasma CVD and metallo-organic CVD processes. It also explains growing importance of CVD in production of semiconductor and related applications.

Användarnas betyg av Handbook of Chemical Vapor Deposition



Hitta liknande böcker
Boken Handbook of Chemical Vapor Deposition finns i följande kategorier:

Gör som tusentals andra bokälskare

Prenumerera på vårt nyhetsbrev för att få fantastiska erbjudanden och inspiration för din nästa läsning.