Marknadens största urval
Snabb leverans

Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Om Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Visa mer
  • Språk:
  • Okänt
  • ISBN:
  • 9781032386706
  • Format:
  • Inbunden
  • Sidor:
  • 354
  • Utgiven:
  • 15. december 2023
  • Mått:
  • 156x0x234 mm.
  • Vikt:
  • 852 g.
Leveranstid: 2-4 veckor
Förväntad leverans: 24. januari 2025
Förlängd ångerrätt till 31. januari 2025
  •  

    Kan ej levereras före jul.
    Köp nu och skriv ut ett presentkort

Beskrivning av Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Användarnas betyg av Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes



Hitta liknande böcker
Boken Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes finns i följande kategorier:

Gör som tusentals andra bokälskare

Prenumerera på vårt nyhetsbrev för att få fantastiska erbjudanden och inspiration för din nästa läsning.