Marknadens största urval
Fri frakt över 199 kr
Snabb leverans
Hjälp
Logga in
  1. Hem
  2. Böcker
  3. Företagande & lärande
  4. Vetenskap
  5. Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching

Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching

del av Physics of Thin Films-serien

Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching
Om Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching

Includes four chapters that discuss high-density plasma sources for materials processing, electron cyclotron resonance and its uses, unbalanced magnetron sputtering, and particle formation in thin film processing plasma.

Visa mer
  • Språk:
  • Engelska
  • ISBN:
  • 9780125330183
  • Format:
  • Inbunden
  • Sidor:
  • 328
  • Utgiven:
  • 29. september 1994
  • Mått:
  • 236x158x27 mm.
  • Vikt:
  • 642 g.
  Fri leverans
Leveranstid: 2-4 veckor
Förväntad leverans: 24. januari 2025
Förlängd ångerrätt till 31. januari 2025
  •  

    Kan ej levereras före jul.
    Köp nu och skriv ut ett presentkort

Beskrivning av Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching

Includes four chapters that discuss high-density plasma sources for materials processing, electron cyclotron resonance and its uses, unbalanced magnetron sputtering, and particle formation in thin film processing plasma.

Användarnas betyg av Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching



Andra köpte även...
Hitta liknande böcker
Boken Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching finns i följande kategorier:

Gör som tusentals andra bokälskare

Prenumerera på vårt nyhetsbrev för att få fantastiska erbjudanden och inspiration för din nästa läsning.