Marknadens största urval
Fri frakt över 199 kr
Snabb leverans
Hjälp
Logga in
  1. Hem
  2. Böcker
  3. Företagande & lärande
  4. Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus

Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus

av Juergen Geiser
Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus av Juergen Geiser
Om Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus

Discusses the study of simulating the growth of a thin film by chemical vapour deposition (CVD) processes. This title presents underlying hierarchy of models for low-temperature and low-pressure plasma in order to discuss the processes that can be used to implant or deposit thin layers of important materials.

Visa mer
  • Språk:
  • Engelska
  • ISBN:
  • 9781621003656
  • Format:
  • Inbunden
  • Sidor:
  • 144
  • Utgiven:
  • 1. januari 2012
  • Mått:
  • 162x234x14 mm.
  • Vikt:
  • 352 g.
  Fri leverans
Leveranstid: Okänt - saknas för närvarande

Om Juergen Geiser

Se alla böcker av Juergen Geiser

Beskrivning av Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus

Discusses the study of simulating the growth of a thin film by chemical vapour deposition (CVD) processes. This title presents underlying hierarchy of models for low-temperature and low-pressure plasma in order to discuss the processes that can be used to implant or deposit thin layers of important materials.

Användarnas betyg av Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus



Andra köpte även...
Hitta liknande böcker
Boken Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus finns i följande kategorier:

Gör som tusentals andra bokälskare

Prenumerera på vårt nyhetsbrev för att få fantastiska erbjudanden och inspiration för din nästa läsning.